Магнетронный источник нанесения с изменяемым полем
Инновационное решение для гибкого и точного контроля процесса покрытия
Магнетронный источник с изменяемым магнитным полем, движущимся по гипотрохоиде с гидроприводом для нанесения материалов в вакууме
Магнетронное поле над поверхностью распыляемой мишени совместно со скрещенным электрическим полем (вектор магнитной индукции B перпендикулярен вектору напряженности электрического поля E) обеспечивает удержание плазмы газового разряда и физическое распыление в вакууме материала мишени. Где концентрации плазмы максимальна, там происходит максимальное распыление.
Ионно-лучевой источник нанесения
Технология высокой точности для современных материалов
Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях
Ускорение ионов осуществляется электрическим полем, сформированным электронами, образующими область отрицательного объемного заряда (виртуального катода). Ионы рабочего газа, как правило аргона, ускоряются электрическим полем, с энергией 1-3 кэВ. и направляются в сторону обрабатываемого объекта.
Ионно-лучевой испаритель (или) – ионно-лучевая пушка
Инновационный метод для создания тонкопленочных покрытий
Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях
Источник разработан и произведен компанией ООО «ПТП» как совершенно новое изделия, для нанесения любых материалов на различные поверхности с возможностями, не имеющими аналогов ни у одного из устройств в мире применяемых в данный момент. Устройство объединило способы нанесения материалов и по многим параметрам превосходит использующиеся в вакуумном пространстве способы (ионное-лучевое нанесение, магнетронное распыление, дуговое напыление, лазерная абляция).
Двунаправленный ионно-лучевой источник - очистки и травления одновременно 2-ух поверхностей разного материала
Синхронная очистка и травление двух различных материалов
Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях
Источник разработан и произведен компанией ООО «ПТП» как совершенно новое изделия, для нанесения любых материалов на различные поверхности с возможностями, не имеющими аналогов ни у одного из устройств в мире применяемых в данный момент. Устройство объединило способы нанесения материалов и по многим параметрам превосходит использующиеся в вакуумном пространстве способы (ионное-лучевое нанесение, магнетронное распыление, дуговое напыление, лазерная абляция).
Технология сращивания кристаллов
Соединение двух разнородных материалов в вакууме на атомарном уровне взаимодействия кристаллической решетки без использования адгезионных (переходных) слоев других материалов.
Особенности технологии
-
Соединение двух материалов с разными физико-механическими свойствами: с различным параметром решетки кристалла, температурным коэффициентом линейного и объёмного расширения и тд. - Данная технология разработана и внедрена на одном из предприятий электронной промышленности.
- Технология позволила получить новые материалы, что дало возможность производить изделия и приборы, работающие на новых физических принципах.
Напыление металла на внутреннюю поверхность трубы
Соединение двух разнородных материалов в вакууме на атомарном уровне взаимодействия кристаллической решетки без использования адгезионных (переходных) слоев других материалов.
ООО «ПТП» разработана технология нанесения любого материала (хрома) на внутреннюю поверхность трубы (орудийный ствол) 30 мм и более, любой длинны
Был разработан оригинальный цилиндрический магнетрон с мишенью диаметром 18 мм и ионно-лучевой источник для очистки поверхности перед напылением, обеспечивая хорошую адгезию хромовой пленки. Магнетрон и ионный источник движутся возвратно-поступательно внутри трубы. Технология позволяет наносить металлы любой толщины на внутренние поверхности цилиндров диаметром от 30 мм.
Нанесение защитных и проводящих металлов на проволоку (струну)
Прочность и функциональность металлопокрытий для промышленных целей
ООО «ПТП» Разработана и внедрена технология нанесения платины (Pt) на вольфрамовую (W) проволоку
Для этого был разработан оригинальный цилиндрический магнетрон нанесения и ионно-лучевой источник очистки поверхности проволоки для улучшения адгезионных характеристик слоя платины, наносимого на проволоку. Разработано оригинальное перематывающее устройство для механического движения проволоки или нескольких проволок внутри технологических устройств – магнетрона и ионного источника.
Ионно-лучевая технология нанесения любых материалов
Современные решения для точного и эффективного нанесения покрытий
Наряду с традиционными методами формирования функциональных слоев ГИС, термическим напылением, магнетронным распылением, осаждением из паро-газовой фазы и другими все более широкое применение находят ионно-лучевые технологии.
В основе ионно-лучевых технологий лежат автономные ионные источники, которые позволяют создавать направленный поток ионов рабочего газа с заданной плотностью тока и энергией. В России наибольшее применение нашли ускорители ионов с анодным слоем (УАС). Для этих ионных источников характерны следующие рабочие режимы