Технологические устройства и вакуумная арматура.
СОБСТВЕННОЕ ПРОИЗВОДСТВО ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ И УЗЛОВ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОБОРУДОВАНИЯ
Магнетронный источник нанесения с изменяемым полем
Магнетронный источник нанесения с изменяемым полем (Устройство нанесения материалов в вакуумном пространстве с изменяемым магнитным полем двигающемся по Гипотрохоиде с гидроприводом)
Магнетронное поле над поверхностью распыляемой мишени совместно со скрещенным электрическим полем (вектор магнитной индукции B перпендикулярен вектору напряженности электрического поля E) обеспечивает удержание плазмы газового разряда и физическое распыление в вакууме материала мишени. Где концентрации плазмы максимальна, там происходит максимальное распыление.
ПодробнееИонно-лучевой источник нанесения
Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях.
Ускорение ионов осуществляется электрическим полем, сформированным электронами, образующими область отрицательного объемного заряда (виртуального катода). Ионы рабочего газа, как правило аргона, ускоряются электрическим полем, с энергией 1- 3 кэВ. и направляются в сторону обрабатываемого объекта.
ПодробнееИонно-лучевой испаритель (ИЛИ) – Ионно-лучевая пушка
Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях.
Источник разработан и произведен компанией ООО «ПТП» как совершенно новое изделия, для нанесения любых материалов на различные поверхности с возможностями, не имеющими аналогов ни у одного из устройств в мире применяемых в данный момент. Устройство объединило способы нанесения материалов и по многим параметрам превосходит использующиеся в вакуумном пространстве способы (ионное-лучевое нанесение, магнетронное распыление, дуговое напыление, лазерная абляция).
ПодробнееДвунаправленный Ионно-лучевой источник - очистки и травления одновременно 2-ух поверхностей разного материала
Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях.
Источник разработан и произведен компанией ООО «ПТП» как совершенно новое изделия, для нанесения любых материалов на различные поверхности с возможностями, не имеющими аналогов ни у одного из устройств в мире применяемых в данный момент. Устройство объединило способы нанесения материалов и по многим параметрам превосходит использующиеся в вакуумном пространстве способы (ионное-лучевое нанесение, магнетронное распыление, дуговое напыление, лазерная абляция).
ПодробнееИсточник питания ATI-SMART 3000/0,3
Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях.
Устройство предназначено для обеспечения питанием ионно-лучевого источника, используемого в вакуумных устройствах нанесения тонкопленочных покрытий. Устройство имеет стабилизированный регулируемый высоковольтный выход.
Подробнее