Ионно-лучевой источник нанесения

 

Ионно-лучевой источник нанесения.

Извлечение и ускорение ионов с границы плазмы анодного столба самостоятельного тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях. Ускорение ионов осуществляется электрическим полем, сформированным электронами, образующими область отрицательного объемного заряда (виртуального катода). Ионы рабочего газа, как правило аргона, ускоряются электрическим полем, с энергией 1- 3 кэВ.   и направляются в сторону обрабатываемого объекта.

  1. Уникальный метод, позволяющий наносить любые материалы (металлы, полупроводники, диэлектрики, магнитные материалы) в едином вакуумном цикле методом распыления этих материалов из соответствующих мишеней и использования различных технологических газов (O2, N2, H2, CO2 и др.);

  2. Производить одновременное нанесение материалов со сложным стехиометрическим составом;

  3. Процесс может проводится как с применением сложносоставных мишеней, так и из порошковой фазы с сохранением стехиометрии исходного материала;

  4. Примеры напыления сложных составов- Zn-W, Zn-O, Cu-Al и пр. Нанесение дорогостоящих материалов (золота, платины, палладия, иридия) с высоким коэффициентом использования исходного материала.

  5. Возможность нанесения радиоактивных материалов и их изотопов (уран, нептуний, плутоний).   

Search