Источник разработан и произведен компанией ООО «ПТП» как совершенно новое изделия, для нанесения любых материалов на различные поверхности с возможностями, не имеющими аналогов ни у одного из устройств в мире применяемых в данный момент.
Устройство объединило способы нанесения материалов и по многим параметрам превосходит использующиеся в вакуумном пространстве способы (ионное-лучевое нанесение, магнетронное распыление, дуговое напыление, лазерная абляция).
Устройство при фокусировке многокаскадного ионного потока позволяет контролировать процесс напыления (поток напыляемых частиц), наносить любой материал и смеси на любую поверхность, не изменяя стехиометрию мишени (исходного напыляемого материала). Уникальность устройства также позволяют в одном цикле произвести подготовку (очистку, травление) и нанести несколько различных слоев, сменяя мишени с наносимым материалом. Используя функцию изменения фокуса потока ионов возможно изменять скорость и объём переносимых частиц, контролировать толщину пленок наносимого материала, вплоть до толщин в несколько нанометров.
Источник ионно-лучевого нанесение материалов имеет уникальные преимущества перед другими способами нанесения (термическим, магнетронным, дуговым).
- Возможность нанесения любых материалов - металлов, полупроводников, диэлектриков, магнитных материалов.
- Возможность сохранения стехиометрии состава наносимых пленок при нанесении сложных составов и смесей.
- Возможность нанесения пленок с физической и оптической толщиной и высокой равномерностью (менее 1%),
- Возможность нанесения покрытия без подслоя (улучшает качество и параметры изделий)
- Возможность нанесения пленок сложного состава (многослойных систем) методом распыления различных материалов с использованием карусели сменных мишеней в едином вакуумном цикле.
- Возможность нанесения оксидов, нитридов, карбидов с использованием различных газов (O2, N2, CO2).
- Возможность использования любых рабочих газов и их смесей (Ar, He, O2, N2, H2, Xe, и др).
- Возможность точного контроля толщины наносимой плёнки методом регулировки рабочего напряжения и разрядного тока.
- Возможность подачи потенциала смещения на распыляемую мишень, что позволяет увеличить энергию ионов до 10 КэВ и делает скорость нанесения сравнимой с магнетронным способом. Более того, распыленные атомы осаждаются на подложку с энергией 6-8 КэВ, что позволяет наносить материалы без подслоя с хорошей адгезией.
- Возможность фокусировки ионных потоков в одну точку, что позволит подвести энергию с плотностью, сравнимой с термическим испарением (самым быстрым). Обеспечивается чистота процесса, так как материал мишени является тиглем.
- Возможность практически полного использования мишени (до 95%, что особо важно при нанесении дорогостоящих материалов: золото, платина, иридий, осмий и др.)
- Возможность использования в качестве мишеней порошковой фазы, если изготовление мишеней невозможно или нецелесообразно.
- Мощность устройства ионно-лучевого нанесения составляет 10кВт
Технические преимущества устройства при использовании, могут найти широкое применение в различных отраслях промышленности и сфер деятельности: Микроэлектроника, Металлургия, Оптическая, Медицина, Аэрокосмическая, Транспорт и другие.
Микроэлектроника – напыление материалов с плохими адгезионными свойствами (медь, золото, серебро) без переходного подслоя (хрома, титана, ванадия) это позволит кратно улучшить технические параметры изделия (частотные характеристики), а также увеличить срок эксплуатации изделия, процент выхода годных. Металлургия – напыление функциональных слоев, которые невозможно получить другими методами. Напыление сверх проводящей керамики сложного состава (иттрий- Y, барий- Ba, тербий- Tb, медь- Cu, технеций- Tc).
Оптическая – Формирование оптических покрытий с хорошей равномерностью (менее 1%) и хорошими оптическими характеристиками по толщине и многослойности.
Медицина – возможность напыления аналога человеческой кости (Гидроксилапатит (гидроксиапатит) — минерал Ca₁₀(PO₄)₆(OH)₂) с соблюдением стехиометрии в напыляемом слое относительно исходного материала мишени. Эта технология позволит создавать биосовместимые материалы человеческим организмом (протезы, суставы, вживляемые устройства и конструкции).
Аэрокосмическая – нанесение экзотических материалов: отражающих, упрочняющих, защитных, изолирующих, проводящих и других функциональных слоев.
Формирование алмаза подобных пленок.
Ионно-лучевое осаждение из плазмы разных алмаза подобных пленок с использованием в качестве рабочего газа смесей, насыщенных углеводородом с аргоном. Пленки могут быть использованы в оптической, медицинской, аэрокосмической и других сферах и отраслях промышленности. Алмаза подобная пленка по твердости и коэффициенту преломления практически равна характеристикам кристалла алмаза. Технология позволит осаждать пленки кремния и его оксидов из жидкостей, имеющих в своей химической формуле кремний.
1- Устройство объединило способы нанесения материалов и по многим параметрам превосходит использующиеся в вакуумном пространстве способы (ионное-лучевое нанесение, магнетронное распыление, дуговое напыление, лазерная абляция).
2- Устройство при фокусировке многокаскадного ионного потока позволяет контролировать процесс напыления (поток напыляемых частиц), наносить любой материал и смеси на любую поверхность, не изменяя стехиометрию мишени (исходного напыляемого материала).
3- Уникальность устройства также позволяют в одном цикле произвести подготовку (очистку, травление) и нанести несколько различных слоев, сменяя мишени с наносимым материалом.
4- Используя функцию изменения фокуса потока ионов возможно изменять скорость и объём переносимых частиц, контролировать толщину пленок наносимого материала, вплоть до толщин в несколько нанометров.
5- Позволяет производить напыление материалов с плохими адгезионными свойствами (медь, золото, серебро) без переходного подслоя (хрома, титана, ванадия) это позволит кратно улучшить технические параметры изделия (частотные характеристики), а также увеличить срок эксплуатации изделия, процент выхода годных.
6- Формирование оптических покрытий с хорошей равномерностью (менее 1%) и хорошими оптическими характеристиками по толщине и многослойности.
7- Возможность напыления аналога человеческой кости (Гидроксилапатит (гидроксиапатит) — минерал Ca₁₀(PO₄)₆(OH)₂) с соблюдением стехиометрии.
8- Формирование алмаза подобных пленок. Ионно-лучевое осаждение из плазмы разных алмаза подобных пленок.
Технология позволит осаждать пленки кремния и его оксидов.